米国特許出願書類作成および侵害防止戦略 (現代産業選書―知的財産実務シリーズ)

U.S.Patent Application Drafting and Infringement Avoidance Strategies（PADIAS） 現代産業選書知的財産実務シリーズ ベンジャミン　J．ハウプトマン キエン　T．リー 経済産業調査会ベイコクトッキョシュツガンショルイサクセイオヨビソショウボウシセンリャク ベンジャミン ジェイハウプトマン キエン ティーリー 発行年月：2017年09月08日 予約締切日：2017年09月04日 ページ数：420p サイズ：単行本 ISBN：9784806529941 ハウプトマン，ベンジャミン・J．（Hauptman,Benjamin J.）（ハウプトマン，ベンジャミンJ．） 米国ヴァージニア州アレクサンドリアを本拠とするHauptman　Ham，LLP事務所創設シニア・マネージング・パートナー。Hauptman　Ham，LLP東京オフィス常駐マネージング・パートナー。複雑な機械・電気電子技術における出願書類作成・権利化業務等の特許・商標分野、ならびに知的財産権の権利行使・侵害対策および使用許諾等の知的財産権保護のあらゆる局面において、特許弁護士としての実務経験を30年以上有する。マサチューセッツ工科大学（MIT）にて工学士号を、フランクリン・ピアス・ロー・センター（現：ニューハンプシャー大学法科大学院）にて法務博士号（JD）を取得 リー，キエン・T．（Le,Kien T.）（リー，キエンT．） 米国内外の依頼人を代理して、主に電気電子、ソフトウェア、機械分野の特許出願書類作成およびその権利化に従事。Hauptman　Ham，LLP事務所登録米国パテントエージェント。理学士号（BS）および科学修士号（MS）を持ち、フランクリン・ピアス・ロー・センターにて知的財産権修士号（MIP）を取得（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章　米国特許出願書類の作成（始めにークレームドラフティング／明細書作成）／第2章　中間手続（その引用例は、先行技術なのか？／拒絶理由を否認できるか？／最後の手段としての補正　ほか）／第3章　中間手続　上級編（KSR拒絶への反論／拒絶理由通知の評価／最終拒絶理由通知後の実務　ほか） 日常業務にすぐに応用できる実務ハンドブック。根本にある法原理の説明に次いで、完全な理解を促す学習の手引きを提供。発明者による発明開示書に基づき、具体例を用いて米国特許実務を解説。 本 科学・技術 工学 その他